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税收优惠政策支撑进步制程 光刻胶国产化空间大

发布日期:2020-12-22 02:52   来源:未知   阅读:
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财政部等四部分宣布《对于增进集成电路产业跟软件工业高品质发展企业所得税政策的布告》,税收优惠政策向进步制程倾斜,http://www.clixcom.com/47715/666.html。光刻胶是半导体光刻工艺的中心资料,受益于本土半导体产能连续扩展和集成电路大基金的支撑,国产光刻胶正在迎来前所未有的发展机会。

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